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　　美光公司(sī)在(zài)华销售的产品未通过网络安全审查

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络(luò)安全审查办公室依法对美光公司(sī)在华销售产品进(jìn)行了网(wǎng)络安全审查。

　　审(shěn)查发(fā)现，美光公司产品(pǐn)存(cún)在较严重(zhòng)网(wǎng)络安(ān)全问题隐患，对(duì)我国关键信息基(jī)础设施供(gōng)应(yīng)链造成重大(dà)安全(quán)风险(xiǎn)，影响我国国家安(ān)全。为此(cǐ)，网络安全审查办(bàn)公室(shì)依法作出不予通过网(wǎng)络安全审查(chá)的(de)结论。按照《网络安全法》等法律法规(guī)，我国内关键信息基(jī)础设施的运营者应(yīng)停(tíng)止采购美光公司(sī)产品。

　　此次对(duì)美光公司产品(pǐn)进行网络安全审查，目的是防范产品网络安全问题(tí)危(wēi)害国家关键信(xìn)息基础设(shè)施安全(quán)，是维(wéi)护国家(jiā)安全(quán)的必(bì)要措施(shī)。中国坚定推进高水平对外(wài)开放，只要遵守中(zhōng)国法律法规(guī)要(yào)求，欢迎各国企业(yè)、各(gè)类(lèi)平台产(chǎn)品服务进入中国市场。

　　3月31日，中国网信网发(fā)文(wén)称，为保(bǎo)障关键信(xìn)息(xī)基础设施供应(yīng)链安(ān)全，防范产(chǎn)品问题隐患造成(chéng)网(wǎng)络安全风险，维护国家安全，依据《中华人民(mín)共和(hé)国国家安(ān)全(quán)法》《中华(huá)人(rén)民共和国网络安全法》，网络安全审查办公室按(àn)照《网络安(ān)全审查办法(fǎ)》，对美光(guāng)公(gōng)司（Micron）在华销售的产(chǎn)品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存(cún)储芯片行业(yè)龙头，也(y什么的阳光填合适的词 阳光恰当的词语有哪些ě)是全球存储芯片巨头之一，2022年收入来(lái)自中国市场收(shōu)入从此前高(gāo)峰(fēng)57％降(jiàng)至2022年约11％。根据市(shì)场咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海力(lì)士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力(lì)士、美(měi)光在(zài)全球 DRAM （内存）市(shì)场(chǎng)份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市公司中(zhōng)，江波龙、佰维存储等公司披(pī)露过美光(guāng)等国际存储厂商(shāng)为公司(sī)供(gōng)应(yīng)商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已(yǐ)经显著下(xià)降，至少已(yǐ)经不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年(nián)美光位列(liè)江波龙(lóng)第(dì)一大存储晶圆供应商，采购约31亿(yì)元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第(dì)三(sān)大供应商采购金(jīn)额占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在存储产(chǎn)业链(liàn)上下游建(jiàn)立(lì)国内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部(bù)数据等主要存储晶圆(yuán)原厂签署(shǔ)了长期(qī)合约，确保(bǎo)存储晶圆(yuán)供(gōng)应的(de)稳定性，巩固公司在下游市场的供应优势，公(gōng)司(sī)也与国内国(guó)产存储晶(jīng)圆(yuán)原厂武汉(hàn)长江存(cún)储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合(hé)作。

　　有券商此(cǐ)前就分析(xī)，如果美光在中国(guó)区销售受到限制，或将导致下游客户转而采购国外三(sān)星(xīng)、 SK海力(lì)士，国(guó)内(nèi)长(zhǎng)江存储、长(zhǎng)鑫存储等竞对产品(pǐn)

　　分析称，长存、长(zhǎng)鑫的上游设备厂(chǎng)或(huò)从中受益。存储(chǔ)器的生产(chǎn)已经演(yǎn)进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为(w什么的阳光填合适的词 阳光恰当的词语有哪些èi)最关(guān)键、最大量(liàng)的加工(gōng)设备。3D NAND每(měi)层(céng)均(jūn)需要经过(guò)薄膜沉积工艺步骤，同时(shí)刻蚀目前前沿要刻(kè)到 60：1的(de)深孔，未(wèi)来可能会更(gèng)深(shēn)的孔或者沟(gōu)槽，催(cuī)生更多设备需求。据东京电子披露，薄膜沉积设(shè)备及刻蚀(shí)占3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开支(zhī)合(hé)计为75％。自长江存储(chǔ)被(bèi)加入(rù)美国限制名单，设备(bèi)国产(chǎn)化进程加速，看好拓荆科技（薄(báo)膜沉积）等相关公司份额提(tí)升，以及存储(chǔ)业务占比(bǐ)较高的华海清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗）等(děng)收入增长。

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