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　　美光公司在华(huá)销售的(de)产(chǎn)品(pǐn)未通过(guò)网络安全(quán)审查

　　据网(wǎng)信办(bàn)消息，日前，网络安全(quán)审查办公室依法对美光公司(sī)在华(huá)销(xiāo)售产品进行了网(wǎng)络安全审查。

　　审查(chá)发现，美光公司产品存在较严重网络安全(quán)问题(tí)隐患，对(duì)我国关(guān)键信(xìn)息(xī)基础设施供应链造(zào)成重大安全(quán)风险，影响我国(guó)国家安全(quán)。为此，网络安全审(shěn)查办公(gōng)室依法作出不予通(tōng)过(guò)网络安全审查(chá)的(de)结论。按照《网(wǎng)络(luò笑话的拼音怎么写，玩笑的拼音)安全法》等(děng)法律法规，我国内关键信息(xī)基础(chǔ)设施的运营者应停止(zhǐ)采购美(měi)光公司产品。

　　此次对美光公司产品进行网络安全审(shěn)查，目(mù)的是(shì)防范(fàn)产品网络安全问题危害(hài)国家关键(jiàn)信息基(jī)础设(shè)施安全，是(shì)维(wéi)护国家安全的必要措(cuò)施。中国坚定(dìng)推进(jìn)高水平(píng)对外开放(fàng)，只要(yào)遵守中国法律法规要(yào)求(qiú)，欢迎各国企业、各类平台(tái)产品(pǐn)服(fú)务进(jìn)入(rù)中国市场(chǎng)。

　　3月(yuè)31日(rì)，中国网信网(wǎng)发文称，为保障关键信息基础设施(shī)供(gōng)应链(liàn)安全，防范(fàn)产品问题隐患造成(chéng)网络安全风(fēng)险，维护(hù)国家(jiā)安全，依据《中华人民共和国国家(jiā)安全(quán)法》《中华(huá)人(rén)民共和国网络安全法》，网(wǎng)络安全审查(chá)办公室按照《网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查办法》，对美光公司（Micron）在(zài)华销售的产品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存储芯(xīn)片行业龙头，也是(shì)全球存(cún)储芯(xīn)片巨头之一，2022年收入来自中国市场(chǎng)收入从此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份(fèn)额约(yuē)为 96.76％，三(sān)星(xīng)电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市(shì)场(chǎng)份(fèn)额约为(wèi) 94.35％。

　　A股(笑话的拼音怎么写，玩笑的拼音gǔ)上市公司中，江波龙(lóng)、佰(bǎi)维存储等(děng)公司披露过美光等国际存储厂(chǎng)商为公(gōng)司供应商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已经(jīng)显(xiǎn)著(zhù)下降，至(zhì)少已经不是(shì)主要大供应商。

　　公告(gào)显示， 2021年美光位(wèi)列江波(bō)龙第一(yī)大存储晶(jīng)圆供(gōng)应商，采(cǎi)购约(yuē)31亿元，占(zhàn)比33.52％；2022年，江波龙第一(yī)大、第二大和第三大(dà)供应商采购金额(é)占(zhàn)比(bǐ)分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙(lóng)已经在存储产业(yè)链上下游建立国内外广泛合(hé)作。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部数(shù)据等主要存储晶圆(yuán)原(yuán)厂签署了长期合约，确保存储晶圆(yuán)供(gōng)应的稳定性，巩固公司在下游市场(chǎng)的供(gōng)应优势，公司也与国(guó)内国产存(cún)储晶圆(yuán)原厂武汉长江存储、合肥长鑫保(bǎo)持良好的合作。

　　有券(quàn)商此前就(jiù)分析，如果美光在中国区销售受到限制(zhì)，或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海(hǎi)力士，国内长江存储、长(zhǎng)鑫存(cún)储等竞(jìng)对产(chǎn)品(pǐn)

　　分析称，长存(cún)、长鑫的(de)上游设备厂或(huò)从中受益。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外NAND F笑话的拼音怎么写，玩笑的拼音lash现在已经进入3D NAND时(shí)代，2 维到3维的结(jié)构转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄膜沉(chén)积工(gōng)艺步骤，同时刻蚀目前前沿(yán)要刻(kè)到 60：1的深孔，未(wèi)来可能会更(gèng)深的孔或者沟槽(cáo)，催生更多设备需求。据(jù)东京电子披露(lù)，薄(báo)膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资本开支(zhī)合(hé)计为75％。自长江(jiāng)存储被加入美(měi)国(guó)限制名单，设备国(guó)产化进程(chéng)加速，看好(hǎo)拓荆科技（薄膜沉积）等相关公司份额(é)提(tí)升，以(yǐ)及(jí)存储业务(wù)占比较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收(shōu)入增长(zhǎng)。

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